米勒效應(yīng)在MOS驅(qū)動中臭名昭著,他是由MOS管的米勒電容引發(fā)的米勒效應(yīng),在MOS管開通過程中,GS電壓上升到某一電壓值后GS電壓有一段穩(wěn)定值,過后GS電壓又開始上升直至完全導(dǎo)通。為什么會有穩(wěn)定值這段呢?因為,在MOS開通前,D極電壓大于G極電壓,MOS寄生電容CGD儲存的電量需要在其導(dǎo)通時注入G極與其中的電荷中和,因MOS完全導(dǎo)通后G極電壓大于D極電壓。米勒效應(yīng)會嚴(yán)重增加MOS的開通損耗。(MOS管不能很快得進(jìn)入開關(guān)狀態(tài))
所以就出現(xiàn)了所謂的圖騰驅(qū)動!!選擇MOS時,CGD越小開通損耗就越小。米勒效應(yīng)不可能完全消失。
用用示波器測量GS電壓,可以看到在電壓上升過程中有一個平臺或凹坑,這就是米勒平臺。
理論上驅(qū)動電路在G級和S級之間加足夠大的電容可以消除米勒效應(yīng)。但此時開關(guān)時間會拖的很長。一般推薦值加0.1 CIESS的電容值是有好處的。
下圖中粗黑線中那個平緩部分就是米勒平臺。
刪荷系數(shù)的這張圖 在第一個轉(zhuǎn)折點處:VDS開始導(dǎo)通。VDS的變化通過CGD和驅(qū)動源的內(nèi)阻形成一個微分。因為VDS近似線性下降,線性的微分是個常數(shù),從而在VGS處產(chǎn)生一個平臺。
米勒平臺是由于MOS的GD兩端的電容引起的,即MOS datasheet里的CRSS 。
這個過程是給CGD充電,所以VGS變化很小,當(dāng)CGD充到VGS水平的時候,VGS才開始繼續(xù)上升。
CGD在mos剛開通的時候,通過MOS快速放電,然后被驅(qū)動電壓反向充電,分擔(dān)了驅(qū)動電流,使得CGS上的電壓上升變緩,出現(xiàn)平臺。
t0~t1: VGS from 0 to VTHMosfet沒通電流由寄生二極管Df
t1~t2: VGS from VTH to Va ID
t2~t3: VDS下降.引起電流繼續(xù)通過CGD. VDD越高越需要的時間越長
IG為驅(qū)動電流
開始降的比較快.當(dāng)VDG接近為零時,CGD增加直到VDG變負(fù),CGD增加到最大IG下降變慢
t3~t4: MOSFET 完全導(dǎo)通,運行在電阻區(qū)VGS繼續(xù)上升到VGG
平臺后期,VGS繼續(xù)增大,IDS是變化很小,那是因為MOS飽和了,但是,從樓主的圖中,這個平臺還是有一段長度的
這個平臺期間,可以認(rèn)為是MOS 正處在放大期
前一個拐點前:MOS 截止期,此時CGS充電,VGS向VTH逼進(jìn)
前一個拐點處:MOS 正式進(jìn)入放大期
后一個拐點處:MOS 正式退出放大期,開始進(jìn)入飽和期
當(dāng)斜率為dt 的電壓V施加到電容C上時(如驅(qū)動器的輸出電壓),將會增大電容內(nèi)的電流:
I=C×dV/dt (1)
因此,向MOSFET施加電壓時,將產(chǎn)生輸入電流IGATE = I1 + I2,如下圖所示
在右側(cè)電壓節(jié)點上利用式(1),可得到:
I1=CGD×d(VGS-VDS)/dt=CGD×(dVgs/dt-dVds/dt) (2)
I2=CGS×d(VGS/dt) (3)
如果在MOSFET上施加?xùn)?源電壓Vgs,其漏-源電壓Vds 就會下降(即使是呈非線性下降)。因此,可以將連接這兩個電壓的負(fù)增益定義為:
Av=- VDS/VGS (4)
將式(4)代入式(2)中,可得:
I1=CGD×(1+Av)dVgs/dt (5)
在轉(zhuǎn)換(導(dǎo)通或關(guān)斷)過程中,柵-源極的總等效電容Ceq為:
IGATE=I1+I2=(CGD×(1+Av)+CGS)×dVgs/dt=Ceq×dVgs/dt (6)
式中(1+Av)這一項被稱作米勒效應(yīng),它描述了電子器件中輸出和輸入之間的電容反饋。當(dāng)柵-漏電壓接近于零時,將會產(chǎn)生米勒效應(yīng)。
CDS分流最厲害的階段是在放大區(qū)。為啥? 因為這個階段Vd變化最劇烈。平臺恰恰是在這個階段形成。你可認(rèn)為:門電流IGATE完全被CDS吸走,而沒有電流流向CGS
注意數(shù)據(jù)手冊中的表示方法:
CISS=CGS+CGD
COSS=CDS+CGD
CRSS=CGD